1、1∶1萬激電工作方法技術

 

  （1）儀器

 

  激電工作使用WDFZ-2激電發(fā)射機和WDJS-1微機激電接收機。

 

  接收儀開工作前分別用標準信號發(fā)生器進行校驗和一致性檢測，

 

  檢測合格的儀器方可投入使用。

 

  （2）測網(wǎng)或剖面布設

 

  激電剖面布設在具有尋找金屬硫化物礦產(chǎn)前景的礦化蝕變帶上，主要以激電剖面和電測深為主。應盡量垂直于極化體的走向、地質構造方向或垂直于其它物化探異常的長軸方向，盡可能的與已有勘探線或地質剖面重合，提高異常解釋水平和成果的有效性。線距要求100-200米，點距40米。

 

  （3）測點觀測方法技術

 

  激電剖面工作采用中梯測量裝置，AB=1200米，測量范圍為AB極間2/3AB區(qū)間。發(fā)射機供電(測量)周期為8s，接收機測量疊加次數(shù)2次，延時100ms，采樣寬度40ms。其它技術要求嚴格按《時間域激發(fā)極化法技術規(guī)定》執(zhí)行。

 

  激電野外質檢工作應與原始觀測同步進行，質量檢查采用一同三不同的質檢方式，即同點位、不同儀器、不同時間、不同操作者，檢查量為3％。

 

  （4）電法資料整理  主要包括儀器一致性資料的計算，視電阻率計算，精度統(tǒng)計及接口處理等內容，其視電阻率計算中的K值應經(jīng)100%的對算，確保無誤。

 

  視電阻率計算采用以下公式：

 

  K =2π / (1/AM－1/AN－1/BM＋1/BN)  Ps＝K×Vp/I

 

  電法資料的處理主要用于確定視極化率的背景場和對極化體的正演。背景場的分析可選用趨勢面分析（一般用二次）或數(shù)理統(tǒng)計的方法進行，以提供劃分局部異常的基礎性資料。

 

  2、1∶1萬磁法測量工作方法技術

 

  使用G-856質子磁力儀進行總場測量，測量參數(shù)為ΔＴ。儀器試驗、檢查及測點觀測方法技術按前述相關要求進行。  測網(wǎng)布設在篩選的具有尋找鐵族元素礦產(chǎn)前景的1∶5萬磁測異常中，線距要求100-200米，點距要求在20-50米。測線應盡量垂直于地質構造方向或垂直磁異常的長軸方向，盡可能的與已有勘探線或地質剖面重合，提高異常解釋水平和成果的有效性。其它技術要求嚴格按《地面高精度磁法技術規(guī)程》（DZ/T0071-93）的規(guī)定執(zhí)行。

 

  質量檢查采用“一同三不同”的方式進行，質檢率不低于5。磁測資料整理包括一致性計算、基點磁場值計算、磁測值計算及精度統(tǒng)計等內容。其中磁測值計算要求與1∶5萬磁法資料的計算方法一致，各項改正起算點均統(tǒng)一到1∶5萬磁測總基點。

 

  磁測資料的處理視需要進行延拓、化極計算等為判斷異常地質體的性質，推斷構造形跡提供幫助。

 

  3、物性資料統(tǒng)計  根據(jù)不同物理參數(shù)的變化規(guī)律，采用相應的統(tǒng)計方法。巖石極化率采用算術平均值直接求取；電阻率采用幾何平均值統(tǒng)計；磁化率、剩余磁化強度視樣品量大小，分別采用數(shù)理統(tǒng)計方法或幾何平均法（去掉零值標本）。

 

  （四）物探成果報告的編寫

 

  1、報告編寫  根據(jù)要求應單獨編寫物探工作成果報告，作為總體報告的一個附件。根據(jù)相關規(guī)范規(guī)定的報告編寫格式和內容編寫。以物探異常解釋推斷、異常查證成果和下一步工作建議為重點內容，要求層次清楚，簡明扼要，立論有據(jù)，觀點明確，重點突出，文圖并茂。所用名詞、術語、編號、格式要統(tǒng)一、規(guī)范、準確。

 

  2、1∶5萬磁測圖件編制  按1:5萬比例尺編制，其內容應包括調查區(qū)基測線、聯(lián)測點、固定標志等測地內容及電法剖面位置、質檢線段、磁基點、標本采集點等物探內容及重要的地理內容。  剖面平面圖及平面等值線圖：磁測參數(shù)，均應分別編制這兩種圖件，是物探面積工作的主要成果之一，成圖比例尺為1:5萬，要求不但有由物探數(shù)據(jù)制作的曲線，還應有物探異常軸、異常編號等推斷內容及重要的地理內容。

 

  3、異常檢查圖件編制  異常檢查剖面按1:1萬比例尺編制，圖件中應包含在剖面上所有物化探方法的參數(shù)曲線和相應地形地質剖面以及建議的驗證鉆孔等，并應有推斷成果。

 

  激電測深曲線斷面圖一般在報告的異常解釋部分以插圖形式提交，其比例尺選擇可以靈活。在擬斷面圖中應有推斷成果。

 

  物探推斷成果圖：按物探工作比例尺繪制，以簡化的地質內容為底圖，磁測局部異常范圍及編號以及物探的找礦靶區(qū)、推斷的隱伏礦體位置及鉆探驗證孔位和用于揭露異常的探槽和異常檢查剖面等，集中反映物探異常的研究過程和研究成果。  其它圖件如正演圖件電算處理圖件等視需要編制，一般作插圖使用。

 

  其它編繪要求參考有關規(guī)范執(zhí)行。